Physikalische Dampfabscheidung (Sputtern)
Schwierigkeiten in Verbindung mit der erh?hten Temperatur im Falle von CVD k?nnen durch PVD (Sputtern) beseitigt werden. Das Substrat bleibt dabei ziemlich kalt. ??????????
Ein Ionenstrahl (vorzugsweise Edelgas) wird in einer Hochvakuumkammer durch Energie erzeugt und befreit Wolframteilchen, die auf dem Substrat abgeschieden werden. ??????????
Verbesserte Konstruktion der Sputter-Ausrüstung erlaubt etwas die Substitution von CVD-Wolfram. Sputter-Targets, die für dünne Schichten in der Mikroelektronikherstellung verwendet werden, bestehen aus hoch- oder ultrahochreinen W, W-10% Ti und WSix.
Wenn Sie Interesse daran haben Wolframpulver , Fühlen Sie bitte sich frei, mit uns durch eMail in Verbindung zu treten: sales@chinatungsten.com Oder telefonisch:+86 592 5129696
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