Chemische Gasphasenabscheidung
Für die Abscheidung von Wolframschichten aus der Dampfphase wird eine leicht verdampfbare Wolframverbindung mit einem Tr?gergas und / oder Reduktionsgas vermischt und bei einer h?heren Temperatur zersetzt oder reduziert. M?gliche Wolframverbindungen sind Halogenide (vorzugsweise WF6 und WCl6), Wolframhexacarbonyl [W (CO) 6] und Organometallika. Bis jetzt sind nur die Halogenide technisch wichtig. Zur überwindung der Nachteile der Halogenide wurden umfangreiche Untersuchungen in Richtung der Organometallchemie durchgeführt: die zur Reduktion notwendige hohe Temperatur und die durch Korrosion bedingten Schwierigkeiten. ??????????
über CVD hergestellte Folien (chemische Gasphasenabscheidung) zeigen im Vergleich zu geschmiedeten P / M-Produkten eine ganz andere Mikrostruktur hinsichtlich Korngr??e und Kornorientierung. Beide Parameter k?nnen durch die Abscheidebedingungen beeinflusst werden. Wolfram kann durch ?nderung der Wachstumsbedingungen w?hrend der Abscheidung, zum Beispiel durch Bürsten, erhalten werden, was die Keimbildungsgeschwindigkeit erh?ht und das s?ulenf?rmige Kornwachstum st?rt. Das Verfahren bietet auch die M?glichkeit, Schichten mit gewünschter Kristallorientierung oder sogar Einkristallschichten abzuscheiden. ??????????
CVD (chemische Gasphasenabscheidung) aus Wolfram und Wolfram-Rhenium (Co-Abscheidung von WF6 und ReF6) ist von kommerzieller Bedeutung für die Herstellung von R?ntgen-Targets. W-Re-Schichten von bis zu 1 mm werden auf Graphitscheiben mit Durchmessern zwischen 100 und 150 mm abgeschieden. Darüber hinaus kann CVD verwendet werden, um zylindrische oder konische Schalen, Kegel (wie geformte Ladungsauskleidungen), Tiegel und dünnwandige Rohre herzustellen. ??????????
Niederdruck-CVD aus Wolfram wird auf Durchkontaktierungen, niederohmige Kontaktbarrieren und Leiterplatten für integrierte Schaltkreise mit hoher Dichte geprüft. Je nach Substrat und Abscheidebedingungen k?nnen entweder α- oder β-Wolfram oder ein Gemisch aus beiden Formen gebildet werden. Dies ist von Interesse, da der spezifische Widerstand von & beta; -W etwa 10mal h?her ist als der von & alpha; -W.
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