三氧化鎢靶材

三氧化鎢（WO₃，tungsten trioxide）薄膜是一種重要的功能材料，因其具有優良的電致變色性能而被用于系統中。電子束蒸鍍法制備致變色用WO₃薄膜常用的蒸鍍物質有WO₃粉末和WO₃靶材兩種。目前研究較多的是采用WO₃粉末作為蒸鍍物質，但是采用粉末的形式通常是不合適的，選擇三氧化鎢靶材作為蒸鍍物質是一種優化方案。

三氧化鎢靶材的制備采用一般電子陶瓷的制備方法，其工藝流程一般為：球磨混料—壓制成型—燒結。

在制備三氧化鎢靶材的過程中，原料的好壞將對陶瓷的最終性能產生決定性的影響。功能陶瓷與傳統陶瓷的最大區別在于它對原料的純度、顆粒尺寸和分布、反應活性、晶型、可利用性以及成本必須全面考慮和控制。常見的三氧化鎢靶材的制備方法有固相法、氣相法和液相法。
1. 固相法制備三氧化鎢靶材時，常采用煅燒APT，在煅燒過程中多次氧化還原的方式，經過每一步氧化或者還原過程后的產物，都較上一過程中尺寸減小；
2. 氣相法一般選擇易揮發的化合物作為原料；
3. 液相法制備三氧化鎢靶材可以將濃鹽酸直接加入到鎢酸鈉溶液中，制得黃鎢酸沉淀，沉淀經過干燥、煅燒后，得到三氧化鎢靶材材料。

為制備高純度和超高致密度三氧化鎢靶材，需要優化如下幾個工藝：
1. 高純度、高燒結活性且壓制性能優良的三氧化鎢粉體的制備；
2. 三氧化鎢陶瓷的壓制工藝；
3. 三氧化鎢陶瓷的燒結工藝。

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